진공 상태에서는 대기압에 비하여 상대적으로 낮은 에너지로 플라즈마 상태를 만들 수 있어 플라즈마 형성을 위해 진공타입의 챔버를 사용한 장비가 널리 사용 되고 있습니다.

1차로 챔버 내부를 펌프를 이용하여 진공을 만들고 목표 진공도에 도달 한 후, 2차로 운용 가스를 챔버 내부에 넣어줍니다. 지속적인 펌핑과 운용가스의 주입으로 챔버 내부에 안정적인 미압이 형성되는데 이를 공정압력(process pressure)라고 하며 이때 RF(radio frequency) 13.56Mhz 또는 마이크로웨이브(microwave) 2.45Ghz 주파수를 챔버 내에 인가하여 운용 가스를 플라즈마화 합니다.

플라즈마화된 전자와 이온은 확산운동을 통해 챔버내 전체를 플라즈마 상태로 유지시켜 주며 가스의 양과 파장의 세기, 운용 시간에 따라 처리 결과는 달라집니다. 마이크로웨이브는 파장이 더 짧아 RF에 비하여 더 높은 밀도의 플라즈마를 형성 할 수 있고 등방성이 우수하여 고도의 작업을 낮은 온도에서 수행하는데 장점이 있습니다. 큰 챔버사이즈와 고성능의 저압 플라즈마 시스템은 매우 합리적인 가격으로 공급됩니다.

마그네트론 방식과 솔리드스테이트 방식의 소스중 선택이 가능하며 중요한 대부분의 기능들은 터치스크린에서 콘트롤 됩니다.

In vacuum state, plasma can be created with relatively low energy compared to atmospheric pressure, so the equipment model using a vacuum type chamber is widely used for plasma formation. Firstly, a pump is used to create a vacuum inside the chamber, and once reaching the target vacuum level, then the operating gas is put into the chamber. Stable micro pressure is formed inside the chamber by continuous pumping and injection of the operating gas. This is called process pressure. At this time, a radio frequency (RF) of 13.56Mhz or a microwave of 2.45Ghz is applied to the chamber to get the operating gas into plasma state. Plasmazied electrons and ions keep the entire chamber in plasma state through diffusion motion, and the plasma treatment results vary depending on amount of gas, intensity of wavelength, and operating time. Microwave has a shorter wavelength and can form higher density plasma than RF, and is better for performing high-level work with its excellent isotropy with low temperature.